|
 |
 |
 |
| |
| |
|
|
|
| |
最适合用于研究开发之用: μPG 101
(桌上型激光掩模板 Photo Mask 绘图机)
操作不但简单，也可对应3维的绘图模式。
尺寸：61cm×74cm×50cm
光源：半导体激光（波长：405nm / 375nm）
描写范围：125 mm ×125 mm
最小描写线幅：1 μm
描绘数据：数据转换软件可接受输入格式为GDS2, DXF、CIF 及BMP 等
应用范围：
MEMS、Bio-MEMS、光学相关等行业、需要开发高精度和高分辨率等应用软件。
光映科技 独家代理 德国海德堡仪器。 销售范围：中国大陆地区、台湾地区。
|
|
| |
 |
| |
μPG101，非常适合用于少量光掩模的绘图工作。价格不但经济实惠，操作简单容易。虽然是小型绘图机 (61cm ×74cm ×50cm)，但是可接受 3维曝光的模式，也可在光掩模中制造复杂的 3D 构造。所以它是最符合实验室等级的小型激光掩模板绘图机。 |
| |
|
| |
| 主要功能： |
应用范围： |
|
最大基板尺寸: 6 × 6 inch2 |
|
最小描绘尺寸: 0.9 μm |
|
最小描绘网格: 40 nm |
|
最小直写范围: 125 X 125 mm2 |
|
先进的灰阶曝光模式 |
|
实时的自动对焦功能 |
|
标准 (405 nm)、UV (375 nm) 激光光源 |
|
多种多样的绘画数据输入格式 (DXF,CIF,BMP) |
|
用于对位的照相机系统 |
|
可变换的读写模块 |
|
支援矢量和栅格曝光模式 |
|
进阶的软、配套元件 |
|
|
MEMS |
|
Bio-MEMS |
|
iIntegrated-optics |
|
Micro Fluid |
|
| |
| 关键词:
掩模板 (Photo mask) 铬板 (Chrome mask) 干版 (Emulsion mask)图形发生器 (Pattern generator) 无掩膜光刻 (maskless lithography) 激光光刻 (Laser plotter) 制板 |
| |
|
|
|
|
|
 |
 |
 |
|
uPG101 档案下载：
