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产业界也可利用的标准设备: DWL 2000
高速、高灵活度，可自动加载基板，也可装载部分其它系统DWL2000 激光掩模板绘图机高速且灵活的机台；在制作掩模板和无掩模激光直写上拥有高分辨率模组生成程序。直写范围可达 200 mm × 200 mm2。
适用于 MEMS, Bio-MEMS, Micro Optics(微光学), ASICs, Micro Fluidics(微流体力学), Sensors(传感器), CGHs，和要求微结构的其它所有应用。
应用范围：
MEMS、Bio-MEMS、光学相关等行业、需要开发高精度和高分辨率等应用软件。
光映科技 独家代理 德国海德堡仪器。 销售范围：中国大陆地区、台湾地区。
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除了高分辨率 2维模组之外, 系统更进步至创造复杂的 3维结构，在厚实的光阻剂建立单一通道。这个软件特点使定制的微光学, 能很快且容易的以折射或绕射的元素来协助您生产制造。针对这些结构设计的过程，是特别为这种情况而设计转换软体, 来实际支援这些 3维应用。 |
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| 主要功能： |
应用范围： |
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最大基板尺寸: 200 ×200 mm2 |
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最小描绘尺寸: 0.5 μm |
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最小描绘网格: 5 nm |
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4 种描绘模式 |
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进阶 3D 描绘模式 |
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alignment 用照相机系统 |
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背部侧面 · alignment · 系统 |
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主机温控防尘罩 |
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选择可能的激光源 |
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光学/空气量规 |
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搭载有 script 的语言功能 |
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多种多样的绘画数据输入格式 |
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(DXF,CIF,GDSII,Gerber,STL) |
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可在线上(Online)传送绘画数据 |
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自动基板加载系统 |
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MEMS |
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Bio-MEMS |
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Micro Optics |
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ASIC |
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Micro Fluid |
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Micro sensor |
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CGH |
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| 关键词:
掩模板 (Photo mask) 铬板 (Chrome mask) 干版 (Emulsion mask)图形发生器 (Pattern generator) 无掩膜光刻 (maskless lithography) 激光光刻 (Laser plotter) 制板 |
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DWL2000 档案下载：
