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公司介绍德国海德堡光罩绘图机玻璃干版.材料全自动制程机/冲片机
 Direct Write Systems
   
upg101 DWL66+
DWL 66+
   
DWL2000 DWL4000
   
DWL8000 VPG800
   
VPG1600  
VPG 1600  
   
 Maskless Aligners
   
MLA100 MLA150
MLA 100 MLA 150
   
   
 
     
DWL66+ 档案下载:[pdf / 1100 KB]
  研究开发用的激光无掩模直写制程系统:DWL 66+
以低价格实现高分辨率,能于立体构造上进行 3维的绘画方式 。

DWL 66+ 适用于掩模板的试制和直接进行描写的研究开发。低价格且高分辨率的激光图形直写系统。最大基板尺寸为 9" × 9",最小绘画尺寸 0.6μm 。能作出复杂的立体构造进行 3维的绘画。

DWL 66+ 的基本顾客,包括全球超过 150 家以上的顶尖大学和研究机构。DWL 66+ 的系统机能,包括密切协助这些机构团体以进行各项的开发。

光映科技 独家代理 德国海德堡仪器。 销售范围:中国大陆地区、台湾地区。

 
 
 
主要功能: 应用范围:
最大基板尺寸: 9" × 9"
最小描绘尺寸: 0.6 μm
最小描绘网格: 10 nm
6 种描绘模式
3D 描绘模式
alignment 用照相机系统
背部侧面 · alignment · 系统
选择可能的激光来源
光学/空气量规
多种多样的绘画数据输入格式 :
  (DXF,CIF,GDSII,Gerber,STL)
MEMS
Bio-MEMS
Micro Optics
ASICs, Micro Fluidics
Sensors, CGHs
Micro sensor

 
关键词: 掩模板 (Photo mask) 铬板 (Chrome mask) 干版 (Emulsion mask)图形发生器 (Pattern generator) 无掩膜光刻 (maskless lithography) 激光光刻 (Laser plotter) 制板