在高度成熟的半导体制造领域，您正面临关键挑战：如何在控制成本的同时提升产能并保持卓越品质。ULTRA半导体掩模直写系统正是为解决这一核心难题而研发，像是微控制器(MCU)、电源管理IC、LED、物联网设备、光子器件及MEMS各类芯片提供高性价比的掩模制造解决方案，以卓越的速度、精度和可靠性，助力您实现良率与盈利能力的最大化。

为什么选择 ULTRA？

ULTRA 结合最先进的技术，可解决现代掩模车间的主要问题：速度、精度和投资回报。

利用高吞吐量加快产能

ULTRA系统以超越传统设备的卓越生产力，显著减少设备停机时间，助您轻松应对紧迫的生产计划。其先进的曝光引擎和优化的写入模式，可将标准6英寸掩模版的制造时间缩短至45分钟以内。

• 基于 SLM 的快速曝光引擎：
  写入速度高达 580 mm²/分钟，同时不影响质量。

• 全自动掩模版传输系统：
  简化操作界面，显著降低人工干预，确保稳定可靠的掩模版装卸，实现连续生产。

• 优化的写入模式：
  灵活选择速度优先或精度优先模式，精准匹配您的不同工艺需求。

以极致的精度实现最高产量

分毫必较，精益求精。ULTRA系统搭载高精度核心组件，确保卓越的对准精度、套刻精度和关键尺寸(CD)均匀性，持续稳定输出高品质掩模版。

• 高精度平台系统：
  全气浮平台搭配零热膨胀ZERODUR^®载台，提供极致稳定性，彻底消除热漂移。

• 先进的位置控制：
  高分辨率差分干涉仪系统，实现特征图形的超精准定位与高重复性。

• 工具匹配功能：
  板载校正功能可支持您多台机器精确匹配，确保整套掩模版的一致性。

卓越成像品质和无缝集成

ULTRA系统可制备完美符合严苛标准的无缺陷掩模版，实现500纳米以下特征尺寸的锐利清晰成像。其精心设计确保与现有产线无缝衔接。

• 定制的微納光学器件：
  专为掩模版写入优化的定制镜头和低畸变紫外光学设计，确保卓越成像均匀性。

• 占地面积小：
  该系统只需占用最小化的净房空间，无需昂贵改造即可快速集成至现有产线。

• 久经考验的可靠性：
  ULTRA 是一个全球顶尖掩模版厂共同认证的成熟工具，深受全球行业产能稳定性的信赖。

提升您的掩模版生产

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