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铬掩模版全自动制程机 (CMSP 800 Chrome Mask)
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应用范围：制作掩模版 |
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Application : Photomask |
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底片大小: 20"x24"~24"x28" (依客户需求訂製) |
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Glass size : 20"x24"~24"x28"(Depends on customer request) |
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最大速度 : Max. 800rpm |
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Max Speed : Max. 800rpm |
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自动上下版/化学药液自动供给：显影、蚀刻、去膜 |
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Auto Load / Unload system Chemical Supply unite :
developer, etching, stripper |
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Processing Method : |
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<1> 显影 (Develop)
<2> 蚀刻 (Etching)
<3> 去膜 (Strip)
<4> 洗净 (Rinse)
<5> 旋干 (Spin Dry) |
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Software : |
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<1> PLC/触摸面板控制 (PLC / Touch Panel)
<2> 图形用户界面 (Graphical User Interface)
<3> 可以依照使用者需求进行加工程序设计 (Programmable) |
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自动冲片制程优点：降低人员操作失误，增加制程稳定度，避免水痕残留造成刮伤或是缺口与光掩模破裂现象发生。 |
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显 影
Developer |
去离子水清洗
DI Clean |
蝕 刻
Etch |
去离子水清洗
DI Clean |
去光阻
Stripe |
去离子水清洗
DI Clean |
制程功能
Process |
显 影 (Developer) → 去离子水清洗 (DI clean) → 蝕 刻 (Etch) → 去离子水清洗 (DI clean) → 去光阻 (Stripe) → 去离子水清洗 (DI clean) |
制程功能
Functions |
旋转喷洒
(Spin spray) |
温度条件
Temperature |
20℃±1℃ |
Room temperature |
20℃±1℃ |
Room temperature |
Room temperature |
Room temperature |
化学药剂供给方式
Chemical Supply |
Automatic |
底片大小
Glass Size |
20” x 24” ~ 24” x 28” x 5.0mm
(加装治具情形下，最小可到 5” x 5”(必须加治具协助) |
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关键词:
掩模板 (Photo mask) 铬板 (Chrome mask) 干版 (Emulsion mask)图形发生器 (Pattern generator) 无掩膜光刻 (maskless lithography) 激光光刻 (Laser plotter) 制板 |
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