日本柯尼卡美能达高解析玻璃底片
Konica Minolta High Precision Photo Plate
快速反應底版 - Rapid Access RL1
适用范围 (Applications):
适用于各种类型的雷射光罩绘图产品，例如： YAG, Ar。
也适用于接触式负片玻璃光罩制程。
光谱感度 (Spectra sensitivity):
特色 (Features):
使用快速反应显影药水，更容易控制显影制程。
搭配优秀的显影药水，可以持续使用在自动设备或手动槽制程槽中。
高黑化度可以达到 5.5 以上。
也适用 E 系列产品的显影液 (DE-200)。
制程条件 (Processing conditions):
制程步骤
(Processing)
搭配药水
(Chemical used)
制程温度
(Temp.)
制程时间
(Time)
显影
(Development)
显影液
(Developer)
CDM-721
20℃
显影时间2分钟配合不断摇晃槽体
(2 minutes with continuous agitation)
中止反应
(Stop bath)
醋酸
(Acetic acid)
(3%)
18~21℃
10~30秒
(10 to 30 seconds)
定影
(Fix)
定影液
(Fixer)
.
CFL-881
18~21℃
显影时间2分钟配合不断摇晃槽体
(2 minutes with continuous agitation)
水洗
(Wash)
流动水
(Flowing water)
18~21℃
10~30秒
(10 to 30 seconds)
风干
(Drying)
20 to 50℃ 干燥空气
(Clean air 20 to 50℃)
Some processing conditions with HE1 & CE1 applied when processed with E-Series developer (DE-200)
Designated safe light : Please ask for details
关键词:
掩模板 (Photo mask) 铬板 (Chrome mask) 干版 (Emulsion mask)图形发生器 (Pattern generator) 无掩膜光刻 (maskless lithography) 激光光刻 (Laser plotter) 制板
