公司介绍德国海德堡光罩绘图机玻璃干版.材料全自动制程机/冲片机
 
日本柯尼卡美能达高解析玻璃底片 Konica Minolta High Precision Photo Plate
 
高解析底版 - High Resolution Type HE1
HE1
 
  适用范围 (Applications):  
 

适用于各种不同激光类型的光源产品,例如: YAG, Ar, He-Cd。

也适用于接触式负片玻璃干版制造。
 
  特色 (Features):  
 

忠实呈现各种线条,不论是细的线条或是粗的线条,都有最佳的呈现。

改良显影制程的稳定性,同时增加药水抗氧化性。
减少在显影制程阶段所产生的缺点。
降低显影药水的消耗,提高环境保护要求。
光谱感度 (Spectra sensitivity):
 
线条宽度比较 (Line width balance): 线条尺寸完美地被复制
 

时间变化反应显影药水的稳定性与消耗 (Developer stability over time):

 
制程条件 (Processing conditions):
制程步骤
(Processing)
搭配药水
(Chemical used)
制程温度
(Temp.)
制程时间
(Time)
显影
(Development)
显影液 (Developer)
DE-200
20℃
显影时间3分钟配合不断摇晃槽体
(3 minutes with continuous agitation)
中止反应
(Stop bath)
醋酸 (Acetic acid)
(3%)
18~21℃
10~30秒
(10 to 30 seconds)

定影
(Fix)
定影液 (Fixer).
CFL-881
18~21℃
显影时间3分钟配合不断摇晃槽体
(3 minutes with continuous agitation
)
水洗
(Wash)
流动水
(Flowing water)
18~21℃
10分鐘以上
(10 minutes or more)
风干
(Drying)
20 to 50℃ 干燥空气
(Clean air 20 to 50℃)
Designated safe light : Please ask for details
 
  关键词:
掩模板 (Photo mask) 铬板 (Chrome mask) 干版 (Emulsion mask)图形发生器 (Pattern generator) 无掩膜光刻 (maskless lithography) 激光光刻 (Laser plotter) 制板