Stella-掩模板 (Photo mask) 铬板 (Chrome mask) 干版 (Emulsion mask)图形发生器 (Pattern generator) 无掩膜光刻 (maskless lithography) 激光光刻 (Laser plotter) 制板

MP-700E 干版自动冲片机 (乳剂型玻璃菲林)

	在 HEPA 环境下的无尘作业空间。
	Processing Chambers with HEPA filter
	从 100mm~1000mm 的玻璃底片都可以处理。
	Variable glass size from 100mm ~ 1000mm
	使用者可以经由 PLC 控制系统设置参数。
	PLC control system, parameter can be setup by user.
	专门为湿制程开发了化学控制模组。
	Wet chemistry modules for process chemicals.
	每片加工时间：30~35 分钟。
	Through put : 30 ~ 35min. per piece.
	自动冲片制程：避免水痕、刮伤、缺口和底片破裂。
	No water traces, scrape(scratch), nick, breaking.
	摆动系统：可以根据使用者需要调整上下摆动频率。
	Sway system : sway up and down with adjusted frequency.
	安全装置：过热保护警报装置和紧急停车装置。
	Safety device : Over heat protection alarm device and urgent stop device.
	选配：超音波洗净装置、化学药液自动供给装置和风刀干燥装置。
	Options : Mega sonic device, chemical auto supply unit, Air knife for dry,

基本规格 :

	显影 Developer	润湿 Rinse	定影 Fixer	去离子水清洗 DI Clean	风刀烘干 Dry
制程功能 Process	显影 (Developer) → 去离子水清洗 (DI clean) → 定影 (Fixer) → 去离子水清洗 (DI clean) → 风刀烘干 (Dry)
制程功能 Functions	自动循环摆动上下浸泡 Automatic circulate Sway up and down	喷洒与溢流浸泡 Shower & Overflow	上下摆动 Sway up and down	溢流清洗与快速浸泡 Overflow & Quick down rinse	风刀&热风吹干 Air Knife & Heater
温度条件 Temperature	20℃±0.5℃	Room temperature	Room temperature	Room temperature	RT～50℃
化学药剂供给方式 Chemical Supply	Automatic	Automatic	Automatic	Automatic	N/A
底片大小 Glass Size	.......5” x 5”x 1.6mm ~ 24” x 28” x 5.0mm

关键词: 掩模板 (Photo mask) 铬板 (Chrome mask) 干版 (Emulsion mask)图形发生器 (Pattern generator) 无掩膜光刻 (maskless lithography) 激光光刻 (Laser plotter) 制板