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公司介绍德国海德堡光罩绘图机玻璃干版.材料全自动制程机/冲片机
 
   
CMOS800
  铬掩模版全自动制程机 (CMSP 800 Chrome Mask)
应用范围:制作掩模版
  Application : Photomask
底片大小: 20"x24"~24"x28" (依客户需求訂製)
  Glass size : 20"x24"~24"x28"(Depends on customer request)
最大速度 : Max. 800rpm
  Max Speed : Max. 800rpm
自动上下版/化学药液自动供给:显影、蚀刻、去膜
  Auto Load / Unload system Chemical Supply unite :
developer, etching, stripper
Processing Method :
  <1> 显影 (Develop)
<2> 蚀刻 (Etching)
<3> 去膜 (Strip)
<4> 洗净 (Rinse)
<5> 旋干 (Spin Dry)
Software :
  <1> PLC/触摸面板控制 (PLC / Touch Panel)
<2> 图形用户界面 (Graphical User Interface)
<3> 可以依照使用者需求进行加工程序设计 (Programmable)
 
  自动冲片制程优点:降低人员操作失误,增加制程稳定度,避免水痕残留造成刮伤或是缺口与光掩模破裂现象发生。
 
 
显 影
Developer
去离子水清洗
DI Clean
蝕 刻
Etch
去离子水清洗
DI Clean
去光阻
Stripe
去离子水清洗
DI Clean
制程功能
Process

显 影 (Developer) → 去离子水清洗 (DI clean) → 蝕 刻 (Etch) → 去离子水清洗 (DI clean) → 去光阻 (Stripe) 去离子水清洗 (DI clean)

制程功能
Functions

旋转喷洒
(Spin spray)

温度条件
Temperature
20℃±1℃
Room temperature
20℃±1℃
Room temperature
Room temperature
Room temperature
化学药剂供给方式
Chemical Supply
Automatic
底片大小
Glass Size
20” x 24” ~ 24” x 28” x 5.0mm
(加装治具情形下,最小可到 5” x 5”(必须加治具协助)
 
 
  关键词: 掩模板 (Photo mask) 铬板 (Chrome mask) 干版 (Emulsion mask)图形发生器 (Pattern generator) 无掩膜光刻 (maskless lithography) 激光光刻 (Laser plotter) 制板